Hoja de cerámica de carburde sili.

Vista general
especificación
Preguntas frecuentes

Ⅰ.

Introducción del producto de chapa de cerámica de carburde silicio:

La oblea de carburde siliaislde alta frecuencia (SiC) es un material semiconductor de tercera generación, un semiconductor compuesto compuesto por elementos de carbono y elementos de sili. Tiene excelentes propiedades tales como ‌ alto voltade ruptura ‌, ‌ alta conductividad térmica ‌ y‌ banda ancha gap‌ (3,26 eV). Es un material ideal para la fabricación de dispositivos electrónicos de alta temperatura, alta frecuencia y alta potencia.


Ⅱ.

Características principales

1. Propiedades físicas:

Densidad: 3,21-3,23 g/cm ² (sólo 40% de acero).

Dureza ‌: dureza de Mohs 9.0-9.5 (solo superado por el diamante).

Conductividad térmica − : 120-150 W/(m·K) (3-4 veces la del sili).

Punto de fusión ‌: aproximadamente 2730℃.

2. Propiedades eléctricas:

Tensión de ruptura − : 8-10 veces la del silicio.

Velocidad de deriva de saturde electrones − : 2-3 veces la del sili.

Constante dieléctrica ‌: 9-10, adecuado para aplicaciones de alta frecuencia.

Propiedades aislantes ‌: alta tensión de ruptura y baja corriente de fuga.


Ⅲ.

Campos de aplicación.

1. New Energy vehicles‌: sistema de propuleléctrica, pila de carga rápida.

2. 5G Communications ‌: dispositivos de radio frecuencia de estación base.

3. Energía fotovoltaica y eólica: inverter.

4. Smart grid‌: equipo eléctrico de alta tensión.

5. Aerospace‌: componentes de alta temperatura.


Ⅰ.Technical parameters

Parameter category

4H-SiC

6H-SiC

Bandgap width

3.26 eV

3.03 eV

electron mobility

High (2-3 times higher than 6H-SiC)

lower

Applicable scenarios

High frequency, high voltage

High current applications

Supports custom specifications.

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