Las cámaras cerámicas semiconductores de alúmina, como componentes principales de los equipos de grabado por plasma de alta densidad, requieren diseños y aplicaciones que cumplan con múltiples requisitos de rendimiento en entornos de proceso extremos.
Características de los materiales y requisitos de preparación
1.Alta pureza y bajas impurezas:La cerámica de alúmina debe tener una pureza de ± 99.9%, con un contenido de impurezas metálicas (como MgO, CaO y SiO −) controlado dentro de 0.05%--0.8% para reducir el riesgo de contaminación de partículas durante el proceso de grabado por plasma.
2.Proceso de densificación:El prensado isostático y la sinteria alta temperatura (densidad − 3,98 g/cm ²) se utilizan, y un recubrimiento a nanoescala (5-10 ≥ m de espesor) se aplica para mejorar la denside de la superficie, permitiendo que la tasa de grabado se controla por debajo de 0,1 ³ m/h.
3.Ajuste de estabilidad térmica:El coeficiente de expansión térmica (4,2 × 10 × ⁻ / ⁶) debe ser compatible con el sustrmetálico (como la aleación de aluminio) para evitar el agrietamiento de la capa a altas temperaturas (300℃) y la subsiguiente falla de la cámara.
Ventajas de rendimiento clave
1.Resistencia a la erosión por Plasma:En entornos de plasma CF₄ y SF₆, la tasa de corrosión de alúmina de alta pureza se reduce en más de un 90% en comparación con los materiales metálicos tradicionales, reduciendo efectivamente la contaminación de iones metálicos de las obleas.
2.Estabilidad dieléctrica:La constante dieléctrica es estable bajo campos eléctricos de radiofrecuencia (-9.8 ε), asegurando una desviación de uniformidad de distribución de plasma de < -3%, y mejorando la verticdel perfil de grabado a -89.5 ≈.
3.Control de limpieza de superficies:Después del pulido, la rugode de la superficie Ra es < 0,2 μm, y la porosidad es < 0,1%, suprimila adsorde gas y la liberación de partículas, cumpliendo los requisitos de limpieza para procesos por debajo de 7nm.
Escenarios de aplicación
1.Protección de la cámara de grabado:Utilizado como revestimiento de cámara o material de cámara independiente en equipos de empresas como Lam Research y AMEC, puede soportar gases altamente corrosivos como Cl₂ y NF₃, extendiendo su vida útil a más de 2000 horas.
2.Sistema de suministro de Gas:Utilizado en tuberías de distribución de gas y duchas, su precisa estructura de poros (tamaño de poros 50-100μm) alcanza un error de flujo de gas de < 1%, asegurando la uniformidad del grabado.
3.Componentes de soporte de obleas:Combinado con materiales compuestos de carburde silipara sustrde Chuck electrostático, alcanza una uniformidad de temperatura de obleas de -0.3 ± a 150℃, con deformación de borde < 10 ℃ m.
Supports custom specifications.
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